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第157章 必须形成一定的威慑力!否则可能会(第1页)

赵军的演讲很短,主题也非常浅显——他为什么来。

但却让所有人都明白了,为什么半导体行业同盟这么顺利的就搞成了,这么顺利的就拧成了一股绳。

赵军是因为此而来,那么其他人也都差不多。

先不论其他,仅仅是赵军口中,仅仅是有关晶圆产线的这些信息就足够令人咋舌——

中芯国际所有产线的工艺都上升了一个层次,良率和产能都有所提升。

尤其是十倍极限光刻第一次在大众面前得到确认和证实。

这可是一件了不得的大事情。

“十倍分辨率光刻?那岂不是28nm的光刻机,直接就能实现3-nm级别的芯片了?那还要啥的EUV啊!”

正在看直播的人们,先是经历了短暂的寂静,而后瞬间欢腾起来。就仿若一枚深水炸弹从水面缓缓沉入水底,不多时爆炸开来。

“咚”的一声,水面上便如天女散花——全网络,什么这热榜那热搜的都不用再说,这个时刻#十倍分辨率光刻#几乎成了全网唯一的话题。

这几年,科技竞争的加剧,阿美瑞肯对国内诸多科技企业一次又一次的限制,让原本对科技、对芯片制造并不关注的人瞬时明白了科技发展的意义,瞬时明白了芯片是什么,是怎么制造的等等等等。

科技竞争的进程,给所有人上了一堂半导体的科普课程。

尤其是去年Mate60的突然发售,国产先进工艺芯片第一次在世人面前亮相,更是激发了别样的热潮。

不说业内人士和爱好者,就算什么都不懂的普通人,也都知道制造芯片的关键是光刻机了,甚至能头头是道的说一堆诸如DUV、EUV双重曝光四曝光等一批专业名词了。

而今天,赵军的一番话,#十倍分辨率光刻#一出来,恰逢其会,瞬间引起了轰动与聚变——了解了芯片制造是什么之后的人们更加能够体会其中的强大。

有人瞬间就意识到,这不一下子就赶上世界最顶尖的工艺了吗?2~3nm!

“当然没有这么简单,宏图微电子的产线,实现极限十倍光刻是没错,但极限并不容易达到的。

“出于良率和效率的考量,那边的产线更多的还是在生产40nm的芯片,少部分量产28nm。至于极限22nm,只是理论数据能达到。

“还有就是,工艺越先进,提升越困难,指望28nm级别的光刻机实现2。8nm的工艺是不可能的。顶多,能够达到EUV5nm的水准。”

此刻,有关产线的相关消息已经放在了明面上,过了保密期限,只要不涉及技术泄密,可以畅所欲言了。

憋了那么久的知情人士也一下子纷纷冒了出来:

“那也已经不得了啊!台积电所谓的5nm4nm3nm的,实际也达不到,只是一个名字而已。

“更何况,经过卷耳智能科技改造过的产线,那是具有成长性的。现在的工艺,虽然已经基本定型,但是,随着时间的推移,随着生产经验和生产数据的不断增加,仍然是具备更上一层楼的可能性的。

“然后,你们再想想海思的设计能力,在工艺严重落后的情况下,9100的性能已经追的只差1~2代了,这要工艺提上来了,什么效果你敢想?”

“麒麟9100?嘿嘿!告诉你们,下一代麒麟肯定要换全新的架构了,你们可以大胆的幻想一下新架构的事儿,过多的就不透漏了,明天就有惊喜!”

“这他么还用你说?明天下午,卷耳的专场……”

……

电脑直播看着峰会现场,手机刷着微博,不错过任何一个知情人士的爆料,科技爱好者们不管是手指还是眼睛,从这一刻起,完全没得半刻清闲。

但心中的激动,那是久久都没法平息。

峰会第一天,就接二连三不断的一个一个的爆出猛料,明天下午卷耳智能科技的专场会发生什么?卷耳智能科技到底准备了什么?要发布什么?

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